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力学
大气压He/O_(2)微等离子体射流阵列及其薄膜处理均一性研究
大气压等离子体射流阵列下游工作区的不均一性问题是一个亟待解决的难题。本文以四根出口直径为10 μm的玻璃微针作为发生器主体,设计了一种线型He/O_(2)微射流阵列;重点研究施加电压对等离子体电学、光学以及聚合物薄膜改性效果的影响,并分析了不均一性产生的可能原因。实验表明:该射流阵列具有气体温度低、活性强等优点,薄膜处理后表面改性效果明显;等离子体发光强度、气体温度、O含量以及改性后薄膜表面O/C比例均随施加电压增加而增加;但发现过低或过大电压均会影响各射流之间的均一性,该现象可能与各射流间的空间电场分布以及库伦作用力有关,通过合理调节施加电压可使得各射流处理效果获得较好的均一性。
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真空科学与技术学报
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