横向ADP电光调制器稳定性分析-应用激光1981年04期-手机知网

横向ADP电光调制器稳定性分析

上海市激光技术研究所,上海市激光技术研究所,上海市激光技术研究所,上海市激光技术研究所,上海市激光技术研究所, ; | 范元绚管华罗狄娟

本文对横向ADP电光调制器的稳定性作了概括分析,推导了估算工作点漂移的一般公式,并对研制的器件进行了实验分析。认为调制器的不稳定性可归纳为消光比改变及工作点漂移二类。而造成工作点漂移的主要因素为温度变化与光束方向变化。在小功率应用时,光束方向变化所造成的工作点漂移是调制器不稳定的主要原因,它可以通过施加偏置电压进行控制。

机　构:

上海市激光技术研究所,上海市激光技术研究所,上海市激光技术研究所,上海市激光技术研究所,上海市激光技术研究所,;

领　域:

物理学；

关键词:

半内腔；激光器；双折射；电光调制器；消光比； ADP；稳定性分析；