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无线电电子学
基于AFM的多图层图形加工
基于AFM阳极氧化加工理论,对AFM阳极氧化加工技术在多图层图形结构加工制造中的应用开展研究。提出一种新型的基于标记对准的套刻对准方法,并应用具有高分辨率的游标对图形的套刻对准精度进行直观、可靠的测量。实验结果证明,利用所提出的AFM套刻对准方法,能够在不引入复杂光学对准设备的条件下,实现25 nm左右的套刻对准精度,完成具有多图层的纳米级图形结构制备。
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微细加工技术
2007年05期
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