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物理学
第2系列ZrO_2(Y_2O_3)薄膜的慢正电子研究
用慢正电子技术研究了在溅射时不加偏压 ,衬底加热 30 0℃ ,纯Ar气氛下制备的用Y2 O3 稳定的ZrO2 薄膜材料 (简称YSZ薄膜 ) ,发现了YSZ薄膜在不同深度处的缺陷分布情况 ,退火温度对YSZ薄膜缺陷有影响 .简要讨论了致密、优质YSZ薄膜的制备方法 .
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物理学报
2000年07期

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