手机知网 App
24小时专家级知识服务
打 开
物理学
基于边缘光抑制技术的双光束激光直写纳米光刻系统
利用边缘光抑制技术,设计、研制了一套双光束激光三维直写光刻系统。该系统具有高速扫描振镜和三维纳米压电平台两组扫描机构,可以根据不同加工需求完成多种扫描模式下的微纳结构制造。经分析光刻光束中激发光与抑制光能量变化对加工精度的影响,通过对光刻光束能量的精确控制,实现了基板表面最小线宽64nm均匀线条和线宽30nm悬浮线的稳定加工。加工结构的线宽变化符合理论预期。该系统在进行实用器件加工时,其最高加工产率可达到0.6mm~2/min。使用该系统加工制造了多种微纳结构,证实了其具备加工大深宽比周期结构、复杂曲线结构和不规则三维结构的能力。
0 184
手机阅读本文
下载APP 手机查看本文
中国激光
网络首发
相似文献
图书推荐
相关工具书

搜 索