手机知网 App
24小时专家级知识服务
打 开
金属学及金属工艺
注氢(111)硅片高温退火后形成的二次缺陷
硅材料与氢的相互作用是影响其结构完整性的重要方面. 高分辨电子显微术被用于研究注氢硅片高温退火时形成的二次缺陷. 实验发现高温退火如低温退火处理一样会导致(111)注氢硅片中出现裂纹, 但不同之处在于裂纹的下部还有大量的位错发射, 而且有些裂纹并未完全裂开, 表现为非晶带. 另外, 高温退火还导致空腔的出现, 空腔呈截角八面体形状, 以{111}和{100}面为内表面, 可以有非晶状的内壁. 空腔平行于正表面成串状排布. 空腔间有位错带与之相连.
0 67
手机阅读本文
下载APP 手机查看本文
中国科学G辑:物理学、力学、天文学
2004年03期
相似文献
图书推荐
相关工具书

搜 索