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无线电电子学
应用DLTS技术研究磷处理对Si—SiO_2界面态的影响
本文应用DLTS(深能级瞬态谱)技术研究磷处理对Si—SiO_2界面态密度和停荻截面的影响.给出了(100)晶向n型硅MOS结构的实验结果.
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华南师范大学学报(自然科学版)
1984年02期
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