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无线电电子学
防辐射非制冷红外二次成像光学系统设计
为解决在高辐射环境中使用的红外热像仪,由于辐射导致其性能退化迅速的技术问题,采用二次成像两档变倍光学系统进行"L"型折叠的结构形式,设计了焦距为30/120 mm的非制冷红外双视场成像光学系统。其工作波段为8~12μm,光学系统F数为1.1。设计结果表明,该系统结构简单紧凑、体积小、成像良好,在探测器对应的特征频率30 1p/mm处的MTF值大于0.4,满足应用需求。
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光学与光电技术
2020年06期
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