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化学
原子吸收背景校正的新技术——史密斯-希夫叶法
<正> 背景校正在原子吸收光谱分析中是非常重要的,尤其对于石墨炉原子吸收分析。1965年氘弧背景校正器问世,1968年开始商品化,自那以后,大多数原子吸收光谱仪都配备了它。70年代后期,利用塞曼(Zeeman)效应的背景校正器被用于原子吸收光谱仪,但目前仅用在为数不多的仪器上。在1982年的第三十三届匹兹堡分析化学和应用光谱会议上,史密斯—希夫叶(Smith-Hieftje)背景校正法第一次公诸于世,在1983年于阿姆斯特丹举行的第二十三届国际光谱讨论会和第十届原子光谱会议上,H.L.Kahn又再次对其进行描述。本文将介绍这一看起
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分析试验室
1985年08期
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