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化学
铕(Ⅲ)在邻菲啰啉/Nafion薄膜修饰电极上的伏安行为
本文研究了铕(Ⅲ)在邻菲啰啉/Nafion聚合物薄膜修饰电极上的伏安行为。在pH5.1的六次甲基四胺底液中,实验了多种因素对铕(Ⅲ)的还原电流的影响。在选定分析条件下,铕(Ⅲ)的还原峰高在1.0×10~(-7)~1.0×10~(-5)mol/L范围内有良好的线性关系。富集时间15min时,检出限可达3.0×10~(-8)mol/L。用于发光材料中铕(Ⅲ)的测定,取得满意结果。
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分析化学
1992年12期
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