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园艺
静电场处理对垂枝樱花插穗生根及相关生理生化特性的影响
以垂枝樱花为材料,设置1.5、3.0、4.5、6.0kV/cm共4种场强的静电场处理,分析静电场对垂枝樱花插穗生根性状及相关生理、生化特性的影响,探讨静电场促进垂枝樱花插穗生根的机制。结果显示:(1)1.5~4.5kV/cm场强的静电处理能显著提高插穗的可溶性蛋白、可溶性糖含量,且4.5kV/cm处理的增幅最大,峰值时比对照分别增加43%和44.1%;(2)1.5~4.5kV/cm场强的静电场处理能显著提高插穗的过氧化物酶(POD)活性,降低吲哚乙酸氧化酶(IAAO)活性,且4.5kV/cm处理的效果最明显,与对照相比增幅和降幅最大时分别达到58.9%和17.5%;(3)3.0、4.5kV/cm的静电场处理均能够显著提高插穗的平均单株生根数、根系平均长度、单株根鲜重、根系活力以及插穗成活率,且4.5kV/cm处理的增幅最大,与对照相比分别增加了127.4%、29.2%、88.9%、107.1%、116.3%。研究表明,静电场处理可以有效调节垂枝樱花插穗的可溶性蛋白、可溶性糖的含量以及POD、IAAO的活性,能显著提高插穗的扦插成活率,其最佳静电场场强为4.5kV/cm。
领 域:
园艺
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西北植物学报
2012年06期

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