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物理学
磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta角分辨XPS
磁性多层膜Ta/NiO/NiFe/Ta由磁控溅射方法制备.采用角分辨X射线光电子能谱(XPS) 研究了反铁磁(Nio)/铁磁(NiFe)界面.结果表明,在NiO/NiFe界面发生了化学反应:NiO+Fe=Ni+ FeO和 3NiO+2Fe—3Ni+Fe2O3,此反应深度约为 1~1.5 nm.反应产物将影响NiO 对 NiFe的交换耦 合.
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北京科技大学学报
2002年02期

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