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无线电电子学
时间依赖性雾(TDH)的产生机理及其消除方法
阐述了Si片表面时间依赖性雾的形成过程、分布、形状、密度及识别和去除的方法。通过同样流程清洗、不同条件干燥处理的Si片在不同湿度条件下储存的实验,指出了时间依赖性雾是H与掺杂原子的联合体以及雾是Si片表面与H2O或O2反应生成SiO2颗粒两种解释的不准确性。提出了时间依赖性雾是含有离子或有机物沾污的水汽在Si表面浓缩而形成的光散射。在总结和比对分析实验结果的基础上,得到了控制时间依赖性雾的生成、延长Si片存储时间的有效方法。
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半导体技术
2009年07期
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