抗冲击高绝缘电阻平面光窗金属外壳的研制-半导体光电2004年04期-手机知网

抗冲击高绝缘电阻平面光窗金属外壳的研制

　采用独特的结构设计,利用高频熔封工艺制作出了抗冲击管帽,并通过选材、优化工艺、改进模具等手段制作了高绝缘电阻管座。实验结果显示,采用以上方法制作的平面光窗外壳能承受3×9.806N的机械冲击,绝缘电阻达到1×1012Ω,较常规的外壳提高了2～3个数量级。

机　构:

领　域:

无线电电子学；

关键词:

光电探测器；外壳；绝缘电阻；抗冲击；

格　式:

PDF原版；EPUB自适应版(需下载客户端)