手机知网 App
24小时专家级知识服务
打 开
电力工业
溅射法制作CrSi薄膜电阻工艺技术
薄膜混合集成电路中,高方阻、高稳定、低TCR、高命中率的薄膜电阻网络制备是一大难题。本文介绍使用直流磁控反应溅射工艺攻克该难题的方法,即通过对影响电阻结构的多种工艺要素(反应气体成分、比例,磁场强度,热处理温度等)的实验归纳,寻找出制作高方阻CrSi 电阻的最佳工艺条件。
领 域:
关键词:
6 114
手机阅读本文
下载APP 手机查看本文
第十四届全国混合集成电路学术会议论文集
2005年
相似文献
图书推荐
相关工具书

搜 索