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一种新型的SiGe超高真空化学气相沉积系统

罗广礼;陈培毅;林惠旺;刘志农;钱佩信

  研制成功了一台超高真空化学气相沉积系统。该系统采用扁平石英管作为生长室 ,扁平石墨加热器进行加热。系统真空度用分子泵维持 ,本底真空度可达 2× 10 -6Pa。利用该系统所生长的SiGe外延层晶体质量良好 ,界面清晰平直 ;利用Ge组分渐变技术还能够实现低位错密度弛豫SiGe外延层的生长……   
[关键词]:超高真空化学气相沉积;SiGe;低温外延
[文献类型]:期刊
[文献出处]: 《真空科学与技术2000年05期
[格式]:PDF原版; EPUB自适应版(需下载客户端)