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沉积工艺条件对金刚石薄膜红外椭偏光学性质的影响

苏青峰;刘健敏;王林军;史伟民;夏义本

  采用红外椭圆偏振光谱仪对不同工艺条件下制备的CVD金刚石薄膜在红外波长范围内的光学参量进行了测量,分析了工艺条件对金刚石薄膜红外光学性质的影响.获得了最佳的沉积工艺参数,优化了薄膜的制备工艺.结果表明薄膜的折射率和消光系数与薄膜质量密切相关,当温度为750℃,碳源浓度为0·9%和压强为4·0kPa时,金刚石薄膜的红外椭偏光学性质最佳,折射率平均值为2·385,消光系数在10-4范围内,在红外波段具有良好的透过性.……   
[关键词]:薄膜光学;红外光学性质;工艺条件;金刚石薄膜
[文献类型]:期刊
[文献出处]: 《物理学报2006年10期
[格式]:PDF原版; EPUB自适应版(需下载客户端)