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无掩模光刻系统的研究与设计

饶玉芳

  光刻是微纳加工的核心技术之一,从其发展历史看,先后经历了从接近/接触式光刻到分步投影光刻再到扫描投影光刻。掩模成本在整个光刻成本中占有的份额也不断攀升。于是,如何在光刻技术中降低掩模成本,采用无掩模光刻技术已成为光刻工程师研究的一个重要课题。同时,随着MOEMS(Micro-Optical-Electro- Mechanical System)技术的发展和器件制作对低成本、灵活、高效的需求,无掩模光刻技术已成为人们研究的热点。 本文基于数字化灰度掩模曝光技术,设计了一种基于DMD的无掩模光刻系统。使用DMD作为空间光调制器来生成数字化掩模图形,与投影光刻系统相结合,发展一种数字光刻技术。该技术具有高效、灵活、快速、低成本等特点,与其它光刻技术相比其潜在优势十分明显。 本论文主要进行以下工作: 首先,确定系统的总体设计方案,阐述光刻系统的工作原理,并对DMD数字光刻系统各个部分进行分析和设计。该系统共由三部分组成:上位机系统、控制系统和光学系统。 其次,在了解光学装校的方法和光学机械设计的基本知识的基础上,应用AutoCAD和SolidWorks软件进行光刻系统的结构设计和装配。 最后,搭建系统平台,进行光刻系统的集成装调和性能测试。利用本系统装置进行曝光实验,通过多次曝光找到系统的一些重要参数和检查系统的性能指标,使系统工作在最佳状态。……   
[关键词]:无掩模光刻;系统设计;性能指标
[文献类型]:硕士论文
[文献出处]:南昌航空大学2010年