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相位掩模法制作光纤光栅的近场理论分析与实验

相艳荣;孙伟民;赵磊;姜富强

  在众多的制作光纤光栅的方法中,相位掩模法目前已被公认为最为实用有效的方法。但是,一般的光源都存在有限的时间和空间相干性,而且掩模板也很难达到完全的零级抑制,这将影响掩模产生的近场干涉图案,从而影响光纤光栅的制作效果。本文对相位掩模的近场衍射特性进行分析,给出掩模板的刻槽深度和占空比对零级抑制的影响。在得出一些有益的结论基础上使用几种不同光敏光纤制作出光纤光栅,并对不同曝光条件对布拉格光纤光栅制作的影响做了初步研究。……   
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