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内爆靶丸CH涂层制备过程中表面光洁度影响因素研究

冯建鸿;黄勇;吴卫东;万小波;马小军

   随着ICF研究工作的深入,物理实验对精密化制靶提出了越来越严格的要求;靶丸表面光洁度参数指标的提出给精密制靶能力提出了巨大的挑战。尽管多年以来,国内外出现了有关内爆靶丸制备及靶丸表面光洁度研究工作的报道,但相关文献较少,涉及关键技术问题的资料就更少。……   
[关键词]:内爆靶丸;涂层制备;影响因素研究
[文献类型]:会议论文
[文献出处]: 《第八届全国核靶技术学术交流会论文摘要集2004年
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