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电沉积参数对Co-Ni合金镀层的影响

杜明华;李宁;武刚;线恒泽

  为了研究糖精的含量以及电沉积参数在大范围变化时,对镀层的外观质量、内应力、脆性的影响,本文采用赫尔槽方法进行了研究。发现pH值在4.0-5.0范围内可以获得光亮且应力较小的镀层,糖精的添加能够明显的降低镀层的拉应力。同时X-射线衍射测试结果表明糖精的加入抑制了合金在110晶面的生长,合金表现出很强的1 00晶面取向。……   
[关键词]:钴镍合金;糖精;pH值;赫尔槽
[文献类型]:会议论文
[文献出处]: 《2002年全国电子电镀年会论文集2002年