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宽温低铬镀铬工艺的最新研究进展

王光辉;成兰英

  本文阐述了电镀铬的高铬工艺和低铬工艺的应用概况,以及目前低铬镀铬添加剂的优点和存在的缺陷,探讨了21世纪下低铬工艺的发展方向,并向电镀界推介了具有创造性的第三代新型镀铬添加剂TCR-21.……   
[关键词]:镀铬;低铬镀铬;深镀力;TR-21镀铬添加剂
[文献类型]:会议论文
[文献出处]: 《2002年全国电子电镀年会论文集2002年