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硅基纳米结构的发光

袁放成

  测量了掺Er氧化硅、掺Er富硅氧化硅、掺Er氮化硅和掺Er富硅氮化硅这四种薄膜室温下的光致发光谱,这四种薄膜在光激发下都具有Er3+离子的1.54μm峰位.Er3+离子1.54μm的峰强度与薄膜的退火温度有关,这些薄膜都分别在600℃、700℃、800℃、900℃、1 000℃、1 100°C的温度下同时退火,发现两种富硅薄膜的强度比不富硅薄膜的1.54μm峰强度要强.①……   
[关键词]:发光;纳米结构;纳米硅粒
[文献类型]:期刊
[文献出处]: 《泉州师范学院学报2005年04期