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分子印迹-化学发光分析法研究

何云华

  化学发光分析法,以其灵敏度高、线性范围宽、仪器设备简单、分析速度快等优点已被广泛地应用于许多领域。但是,由于选择性差,限制了该方法在复杂样品分析中的应用。目前解决问题的途径多是将化学发光分析法与高效液相色谱、气相色谱、毛细管电泳等分离技术相结合,但终因这些方法所需仪器昂贵,操作复杂而未能很好的推广应用。分子印迹技术是一种制备对模板分子具有特效识别能力的聚合物的技术。分子印迹聚合物对目标分子的识别能力可以和酶-底物、抗体-抗原、受体-激素等天然分子识别系统相媲美。如果将分子印迹技术应用到化学发光分析中,利用分子印迹聚合物对目标分子的识别和捕获能力,使目标分子吸附在分子印迹聚合物上,从而与样品中的共存物质分离,然后进行化学发光检测,则可消除共存物质的干扰,提高化学发光分析的选择性。这是我们建立分子印迹-化学发光分析法的目的所在。本论文在第一部分系统地总结了分子印迹技术的基本原理、分子印迹聚合物的制备和表征、分子印迹技术的应用、存在的问题及其发展趋势;对不同价态锰的化学发光行为进行了概述,着重介绍了它们所涉及化学发光体系的反应机理以及分析应用。本论文在第二部分研究工作为:将分子印迹技术应用到以强氧化剂为发光试剂的化学发光体系中,选择还原性物质作为分子印迹聚合物的保护剂,避免了强氧化剂高锰酸钾和Ce(Ⅳ)对含有不饱和键的分子印迹聚合物的破坏作用,保持了……   
[关键词]:分子印迹;化学发光;流动注射;高锰酸钾;Ce(Ⅳ);锰(Ⅳ);后化学发光反应;铁氰化钾;药物;金属离子
[文献类型]:博士论文
[文献出处]:西南师范大学2005年