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钕离子印迹聚合物的合成及其吸附选择性研究

郭佳佳;苏庆德

  用热聚合法合成钕离子聚合物,经过无机酸的洗脱,得到一种具有特异选择性和对模板有 记忆 功能的印迹聚合物。通过元素分析、红外、热分析和光声光谱法验证了产物的结构,并研究了该印迹聚合物对模板离子的选择性。实验表明在 pH=7.5 条件下,吸附20min 即达到吸附平衡,此印迹聚合物对 Nd~(3+)的饱和吸附容量为35.18mg/g,选择性系数 S_(Nd)~(3+)_(Ln)~(3+)达87.61。……