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三十年我国整理技术的回顾与展望

杨栋樑

  简要回顾了我国后整理的发展过程,重点介绍了应用于生产的高分子型整理剂的合成与应用,以及机械整理、免烫整理、阻燃整理、涂层整理、抗菌整理和抗紫外线整理等助剂及工艺技术。展望了后整理工艺的前景,并对我国印染后整理今后的发展提出了建议。……